第209章偷师学艺，零件拼凑

　　时间一晃，又一个月过去。

　　关于光刻机的研究，依旧没有什么进展，这让陈锋备受打击。

　　为了寻找新的研究思路，陈锋决定暗访台积电，全球最先进的光刻机制造商之一，去学习他们的工艺技术。

　　希望能够从中得到一些启示，找到一纳米光刻机的制造思路。

　　陈锋来到了台积电的工厂，他假扮成一名实习生，深入到生产车间，仔细观察光刻机的生产过程。

　　陈锋注意到，台积电的光刻机在刻蚀芯片时，采用的是一种叫做“极紫外光”的光源。这种光源的波长非常短，只有十三纳米，因此可以将芯片的制程推进到五纳米。陈锋开始思考，如果能够找到一种更短波长的光源，是否就可以将芯片的制程推进到一纳米呢？

　　在工厂参观的过程中，陈锋还发现了一个关键的技术细节：台积电的光刻机在刻蚀芯片时，采用了一种特殊的涂覆技术，可以使得光源的波长更加集中，从而提高刻蚀的精度。这给了陈锋很大的启发，他开始思考，是否可以通过改进涂覆技术，来提高光刻机的刻蚀精度。

　　带着这些启示，陈锋回到了水木大学。他开始查阅大量资料，寻找关于极紫外光和涂覆技术的研究。他发现，极紫外光的波长范围是十到一百纳米，而他所需要的一纳米光刻机，需要的光源波长应该在十纳米以下。然而，目前我国还无法制造出这么短波长的光源。

　　陈锋并没有因此放弃，他开始研究各种光源，希望能够找到一种可以替代极紫外光的光源。

　　经过一段时间的努力，他终于发现了一种叫做“软X光”的光源。这种光源的波长在十纳米左右，虽然比极紫外光略长一些，但是已经非常接近了。

　　而且，软X光的强度比极紫外光要强得多，可以更好地刻蚀芯片。

　　陈锋开始设计一纳米光刻机，他将软X光作为光源，设计出一台全新的光刻机。经过多次试验，陈锋发现，他的光刻机可以将芯片制程推进到一纳米。这让他非常激动，这意味着他的研究取得了重大突破。

　　虽然研究取得了重大的突破，但距离研究完成还有一段路要走，起码一纳米光刻机的理论图纸还未绘制出来。

　　所以，在获得了一纳米光刻机的攻克思路后，陈锋立马来到他的“秘密研究基地”。

　　“秘密研究基地”里，陈锋立即开始着手绘画、设计和完善一纳米光刻机制造的理论图纸。他深知，这是一项艰巨的任务，需要将他在台积电学到的知识和自己的研究成果结合起来，设计出一台完全符合一纳米制程要求的光刻机。

　　首先，陈锋在图纸上详细绘制了光刻机的整体结构，包括光源、光学系统、控制系统、机械结构和电气系统等部分。在绘制

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